适用于高负载半导体工艺的高稳定性真空方案
产品介绍
KTP-H3803系列采用高可靠性磁悬浮结构设计,具备优异的大流量抽速性能、高压缩比及快速升降速能力,可满足CVD、ALD、Etch、离子注入及PVD等高负载真空工艺环境需求。
产品提供一体式与分体式两种结构方案,可根据不同设备空间布局及系统集成需求灵活适配,兼顾高稳定性运行与设备集成效率。


产品特点


产品参数表
分子泵型号 KTP-H3803 KTP-iH3803
法兰尺寸 进气端 ISO320 VG300 ISO320 VG300
出气端 KF40/KF50
吹扫口 KF10
冷却水接口 RC1/4
额定转速(r/min) 24000
抽速(L/s) N2 4000
He 3500
Ar 3600
压缩比 N2 3.0x1010
He 2.0x105
Ar 2.0x1010
极限压强 (Pa) 1.0x10-7
最大入口压力(Pa) 50
最大出口压力(Pa) 370
跌落转速 (r/min) 4800
额定功率 (W) 2000
启动压力(Pa) 2000
升速时间 (min) <12
降速时间 (min) <14
安装角度 (°) 任意角度
冷却方式 水冷
振动 (㎛) <0.01
噪声 (dB) <57
控制器类型 分体式 一体式
控制线长度(m) 任意可选
质量(kg) 110 108 154 152
  • KTP-iH3803说明书
  • KTP-iH3803数模
  • KTP-H3803说明书

请留下您的联系方式和咨询内容

流量统计代码